L'objet de cette tude est la gravure par plasma de mat riaux hybrides SiOC(H). Leurs propri t s ajustables entre organiques et inorganiques leurs donnent de grandes potentialit s. Ce travail est d di deux applications en micro lectronique. 1)L' tude s'est port e sur des polym res base de Polyhedral oligomeric silsesquioxane appliqu e la lithographie optique. Les analyses ont t particuli rement pouss es au moyens de mesures XPS et d'ellipsom...