Die Eigenschaften der por sen Si-Schicht, die durch silberverst rktes chemisches tzen von p-Si in w ssriger HF/HNO3-L sung gebildet wird, werden durch die Konzentration der Ag-Ionen im Beschichtungsbad, die Konzentrationen sowohl des tzmittels (HF) als auch des Oxidationsmittels (HNO3) und die tzzeit des Si-Substrats beeinflusst. Die SEM-Ergebnisse best tigten, dass die Abscheidung von Silberionen aus einer 1,0 10-3 M AgNO3-L sung auf p-Si vor...